Vakuové depoziční aparatury

Většina našich vzorků je připravována pomocí vakuových metod, tj. za tlaků výrazně nižších než atmosférický tlak. K dispozici je v současné době v naší skupině 12 vakuových depozičních aparatur vybavených planárními magnetrony, plynovými agregačními zdroji nanočástic či systémy pro vypařování za nízkého tlaku. Jedna specializovaná depoziční a analyzační komora je uzpůsobena pro libovolnou depozici s možností vzorek měřit již během jeho přípravy (např. FTIR, elipsometrie), nebo těsně po jejím skončení bez nutnosti vyjmutí z vakua (např. XPS).

Pro vlastní nanášení tenkých vrstev je možné použít několik technik (a jejich kombinací!!):

• Vakuové napařování – tj. fyzikální depozice z plynné fáze (anglicky Physical Vapour Deposition - PVD).
• Vakuové naprašování (anglicky sputtering).
• Depozice pod velkým úhlem (anglicky Glancing Angle Deposition – GLAD).
• Plazmatem asistovaná vakuová termální dekompozice (PAVTD).
• Plazmatem podpořená depozice z plynné fáze – (anglicky Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition – PE-CVD).